值得信赖的区块链资讯!
比推数据  |  比推终端  |  比推英文  |  比推 APP  | 

下载比推 APP

值得信赖的区块链资讯!
iPhone
Android

三星 HBM4E 良率已超 70%,下一代 DRAM 工艺 D1d 目标 11 月获生产准备批准

比推消息,三星电子在全球首个 HBM4(第六代)量产后,正在 HBM4E(第七代)和下一代 DRAM 开发方面取得进展。三星电子 DS 部门 CTO 兼半导体研究所所长 Song Jae-hyuk 在 6 月 30 日举行的内部经营现状说明会上表示,HBM4E 可靠性测试良率已提升至 70% 以上。业内通常认为,良率超过 80% 即进入工艺稳定的成熟良率阶段;考虑到 HBM4E 仍处于可靠性测试阶段,70% 以上被视为开发正进入稳定区间的指标。

三星电子今年 2 月已率先量产出货 HBM4,并于 5 月 29 日公开 HBM4E 12 层产品详细技术规格,向主要客户出货样品。HBM4 将用于英伟达下半年推出的 AI 加速器 Vera Rubin,HBM4E 则预计用于英伟达明年推出的下一代 AI 加速器 Vera Rubin Ultra 等产品。

三星下一代 DRAM 工艺开发也进展顺利。Song Jae-hyuk 认为,D1d 工艺技术竞争力相较竞争对手具备优势,并正以 11 月获得生产准备批准为目标推进开发。D1d 是三星计划从下一代 HBM5(第八代)起应用的核心 DRAM 工艺,若按计划推进,将对下一代 DRAM 及 HBM5 后续产品竞争力产生积极影响。(Fnnews)

说明: 比推所有文章只代表作者观点,不构成投资建议

比推快讯

更多 >>

下载比推 APP

24 小时追踪区块链行业资讯、热点头条、事实报道、深度洞察。

邮件订阅

金融科技决策者们都在看的区块链简报与深度分析,「比推」帮你划重点。